碳氮化钽

基础技术参数

- 化学式:TaCN

- 外观:灰黑色粉末

- 纯度:高纯度多种规格

- 粒径:微米级、超细粉体,可定制目数

- 特性:导电性能优良;致密微观结构,阻隔扩散能力强;高硬度、耐酸碱腐蚀;热稳定性优异;碳氮元素比例可调

产品核心优势

扩散阻隔性能突出,半导体工艺下有效阻挡铜原子扩散,保护介质层,提升芯片可靠性

组分灵活可调,通过调整碳氮比例,精准调控薄膜电阻率、附着力与热稳定区间

粉体粒度均匀、物相纯净,氧、重金属杂质严格管控,适配高端镀膜工艺

烧结活性良好,既可用于溅射靶材原料,也可制备耐高温金属陶瓷构件

供货方案灵活,支持小样测试、长期批量供货,可提供COA质检报告

主要应用领域

1. 半导体微电子行业

先进制程铜互连工艺扩散阻挡层,晶圆金属化薄膜原料;MEMS器件、存储芯片导电阻隔薄膜。

2. 刀具模具硬质涂层

PVD/CVD镀膜粉体前驱,制备耐磨耐腐蚀硬质涂层,提升刀具、冲压模具使用寿命。

3. 金属陶瓷材料

制备耐高温、导电耐磨金属陶瓷、机械耐磨结构零部件。

4. 靶材制造

烧结碳氮化钽溅射靶材,沉积功能防护薄膜、导电薄膜。

5. 前沿新材料科研

高温复合材料、摩擦学薄膜、纳米功能涂层实验室研发原料。

包装与储存

包装:真空铝箔密封袋、防潮塑料桶封装;常规1kg、5kg、25kg,包装规格可定制。

储存:存放阴凉干燥库房,密封隔绝空气,防潮,远离强氧化剂。


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