基础技术参数

- 化学式：HfO₂

- 外观：白色粉末

- 熔点：2812℃

- 密度：9.68 g/cm³

- 纯度规格：多种纯度规格

- 粒径：微米级、亚微米、纳米级可选（可定制目数）

- 特性：不溶于水、普通无机酸；耐腐蚀、热稳定性强、高折射率、高k介电材料

产品核心优势

纯度可控，低杂质：严格管控锆、铁、硅等有害杂质，适配半导体、高端光学严苛用料标准

粒径可选，粉体均匀：颗粒分散性良好，满足烧结、靶材制备、真空蒸镀、PVD/CVD制膜需求

稳定理化性能：耐高温、抗氧化、化学惰性强，极端工况下性能不易衰减

灵活供货方案：支持小样测试、批量长期供货，可定制包装规格

主要应用领域

1. 半导体微电子行业：主流高k栅介质材料，用于先进晶体管、存储器件、薄膜电容器制造；

2. 光学镀膜领域：紫外-红外光学薄膜原料，制备增透膜、反射膜、激光光学元件、干涉滤光片；

3. 高温耐火与先进陶瓷：制备耐高温陶瓷、热障防护涂层、特种耐火构件；

4. 材料制备原料：生产金属铪、铪合金、铪基化合物基础原料；

5. 其他场景：核工业中子吸收材料、特种催化剂载体、耐腐蚀防护涂层。

包装与储存

包装：真空袋/塑料桶密封包装，常规1kg、5kg、25kg规格，可定制。

储存：存放于干燥阴凉环境，密封防潮，避免长时间暴露空气。