高纯二氧化铪

                                                                                                          高纯二氧化铪

     基本信息


IUPAC 名称:dioxohafnium

元素含量比重:O (oxygen) 15.2% 、Hf (hafnium) 84.8%

二氧化铪 分子结构

密度:9.68g/cm3

熔点:2758℃

摩尔质量:210.49 g/mol

CAS 号: 12055-23-1

蒸发压力:在2678℃时1Pa;在2875℃时10Pa

线膨胀系数:5.6×10-6/K

溶解度:不溶解于水

纯度:99.99

薄膜特性:透光范围~220~12000nm;折射率(250nm)~2.15 (500nm)~2

蒸发条件:用电子枪,氧分压~1~2×10-2Pa。蒸发温度~2600~2800℃,基片温度~250℃,蒸发速率2nm/s

应用领域:UV增透膜,干涉膜

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产品概述

凌颢20230626_0296.jpg

产品特点

我公司生产高纯二氧化铪 纯度高,价格便宜,质量可靠。

可生产超细氧化铪1-3微米,纳米氧化铪 500纳米  20纳米

包装:1000G/真空包装,25公斤/桶装

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