高纯二氧化铪
IUPAC 名称:dioxohafnium
元素含量比重:O (oxygen) 15.2% 、Hf (hafnium) 84.8%
二氧化铪 分子结构
密度:9.68g/cm3
熔点:2758℃
摩尔质量:210.49 g/mol
CAS 号: 12055-23-1
蒸发压力:在2678℃时1Pa;在2875℃时10Pa
线膨胀系数:5.6×10-6/K
溶解度:不溶解于水
纯度:99.99
薄膜特性:透光范围~220~12000nm;折射率(250nm)~2.15 (500nm)~2
蒸发条件:用电子枪,氧分压~1~2×10-2Pa。蒸发温度~2600~2800℃,基片温度~250℃,蒸发速率2nm/s
应用领域:UV增透膜,干涉膜
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可生产超细氧化铪1-3微米,纳米氧化铪 500纳米 20纳米
包装:1000G/真空包装,25公斤/桶装